{"id":2781,"date":"2021-11-05T10:34:31","date_gmt":"2021-11-05T08:34:31","guid":{"rendered":"http:\/\/progwarts.de\/?page_id=2781"},"modified":"2022-01-03T14:33:48","modified_gmt":"2022-01-03T12:33:48","slug":"advanced-oxidation-process-anlagen-hoxon","status":"publish","type":"page","link":"https:\/\/anseros-systeme.de\/de\/advanced-oxidation-process-anlagen-hoxon\/","title":{"rendered":"Advanced-Oxidation-Process-Anlagen | HOXON\u00ae"},"content":{"rendered":"
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System zur Abwasserbehandlung<\/strong><\/h1>
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St\u00e4ndige \u00dcberwachungen von Kl\u00e4ranlagen-ausl\u00e4ufen zeigen eindeutige Kumulationen von organischen Spurenstoffen, welche z.T. umwelttoxisch sind und lange Halbwertszeiten im \u00f6kologischen Kreislauf besitzen. Forschungs-arbeiten belegen, dass diese Substanzen lediglich mit Ozon beseitigt werden k\u00f6nnen bzw. deren Wirkung aufgehoben wird. Innovative AOP-Verfahren, wie etwa das HOXON mit UV (O3\/UV) oder mit organischen Ozoniden (O3\/COOOC), profitieren vom kombinierten Einsatz an Ozon und sind besonders umweltvertr\u00e4glich und nachhaltig. Dabei werden biologisch schwer abbaubare Wasserinhaltsstoffe, wie z.B. Pestizide und Pharmaka, effektiv oxidiert. Der Vorfluter kann bereits als Fischwasser benutzt werden.<\/p>\n

Anwendungsgebiete:<\/p>\n

+ Industrieabwasser
\n+ Kommunale Abw\u00e4sser
\n+ Landwirtschaft- und Lebensmittelindustrie
\n+ Gew\u00e4chsh\u00e4user
\n+ Krankenhausabwasser<\/p>\n<\/div><\/div> \n\n

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System f\u00fcr die Halbleiterindustrie<\/strong><\/h1>
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Das Hoxon-Verfahren von Anseros nutzt die oxidativen Eigenschaften von Sauerstoffverbindungen wie Ozon (O3), Wasser (H2O), Wasserstoffperoxid (H2O2), Kohlendioxid (CO2) und Stickoxiden (NOX) zum Reinigen und Sauberhalten von Oberfl\u00e4chen.<\/p>\n

F\u00fchrende Forschungseinrichtungen beschreiben die industrielle Anwendung von Ozon zur Oxidation, Sterilisation und Desinfektion als nachhaltigen Weg: Ozon ist das Reinigungsmittel der Natur, bew\u00e4hrt \u00fcber Jahrmillionen. Es hinterl\u00e4sst keine halogenierte organische Verschmutzung im Wasser, in der Luft und am Boden, im Gegensatz zu Chlorverbindungen.<\/p>\n

Anwendungen in der Halbleiterindustrie:<\/p>\n

+ Siliziumwafer
\n+ CVD-Anwendungen, frei von Metallimmissionen
\n+ Oxidation von Thiolen, R-S-R
\n+ TOC-Reduzierung in Reinstwasse<\/p>\n<\/div><\/div> \n\n<\/div> \n

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CIP-System (Clean-In-Place)<\/strong><\/h1>
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Im Vergleich zur manuell eingeleiteten Reinigung oder Desinfektion von Fl\u00fcssigkeitsf\u00f6rdersystemen haben automatisierte Desinfektionsverfahren, bekannt als Clean-In-Place (CIP), klare Vorteile, vor allem in Bezug auf Wiederholbarkeit, Zuverl\u00e4ssigkeit und reduzierte Ausfallzeiten sowie bei der Dokumentation der Reinigungsleistung.<\/p>\n

Wenn Ozon anstelle von Chemikalien, wie Wasserstoffperoxid oder Chlor verwendet wird, werden noch gr\u00f6\u00dfere Vorteile offensichtlich. Ozon wird in dem Umfang erzeugt, wie es am Ort der Nutzung (Point-of-Use, POU) ben\u00f6tigt wird, wodurch die Notwendigkeit der Lagerung und Handhabung von Chemikalien entf\u00e4llt.<\/p>\n

Vorteile:<\/p>\n

+ Schnellere Desinfektion
\n+ Hohe Oxidationskraft von Ozon
\n+ Geringere Betriebskosten
\n+ Wiederholbare und zuverl\u00e4ssige Anwendungsvorg\u00e4nge<\/p>\n<\/div><\/div> \n\n

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<\/i><\/i><\/span>Bitte kontaktieren Sie uns f\u00fcr weitere Details.<\/span><\/a><\/div>
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